Chemical/mechanical balance management through pad microstructure in CMP
R. Yim
(1, 2)
,
C. Perrot
(3)
,
V. Balan
(2)
,
P.-Y. Friot
(4)
,
B. Qian
(5)
,
N. Chiou
(5)
,
G. Jacob
(5)
,
E. Gourvest
(3)
,
F. Salvatore
(6)
,
S. Valette
(7, 6)
1
Université Grenoble-Alpes, CEA-LETI, 17 Avenue des Martyrs, 38054 Grenoble, France
2 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
3 ST Microélectronics
4 Dow Electronic Materials
5 Dow Electronics Materials
6 LTDS - Laboratoire de Tribologie et Dynamique des Systèmes
7 ECL - École Centrale de Lyon
2 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
3 ST Microélectronics
4 Dow Electronic Materials
5 Dow Electronics Materials
6 LTDS - Laboratoire de Tribologie et Dynamique des Systèmes
7 ECL - École Centrale de Lyon
S. Valette
- Fonction : Auteur
- PersonId : 917199
- IdHAL : stephvalette
- ORCID : 0000-0002-7033-7181
- IdRef : 112918786