Chemical/mechanical balance management through pad microstructure in CMP
R. Yim
(1, 1)
,
C. Perrot
(2)
,
V. Balan
(1)
,
P.-Y. Friot
(3)
,
B. Qian
(4)
,
N. Chiou
(4)
,
G. Jacob
(4)
,
E. Gourvest
(2)
,
F. Salvatore
(5)
,
S. Valette
(6, 5)
1
CEA-LETI -
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
2 ST Microélectronics
3 Dow Electronic Materials
4 Dow Electronics Materials
5 LTDS - Laboratoire de Tribologie et Dynamique des Systèmes
6 ECL - École Centrale de Lyon
2 ST Microélectronics
3 Dow Electronic Materials
4 Dow Electronics Materials
5 LTDS - Laboratoire de Tribologie et Dynamique des Systèmes
6 ECL - École Centrale de Lyon
S. Valette
- Fonction : Auteur
- PersonId : 917199
- IdHAL : stephvalette
- ORCID : 0000-0002-7033-7181
- IdRef : 112918786